中文名 四(三苯基膦)鈀(0)

英文名 Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0)

別名 四三苯基膦鈀

四-三苯基膦鈀

四(三苯基膦)鈀

四(三苯膦)化鈀

四(三苯基磷)鈀

四(三苯基膦)鈀(0)

高分子交聯(lián)Salen Co(Ⅱ)環(huán)氧化物水解拆分專用催化劑

英文別名 K0545

(beta-4)-palladiu

Tetrakis(triphenylphosphine) p

Terakis(triphenylphosphine)palladi

Tetra(triphenylphosphine) palladium

Tetrakis(triphenylphosphine)palladiu

Tetrakis (iphenylphosphine) Pplladium

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium

tetrakis (triphenyl phosphine)palladium

tetrakis(triphenylphosphin)-palladium(O)

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0)

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(o)

Palladium(0) tetrakis(triphenylphosphine)

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium (0)

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(II)

Tetrakis(triphenylphosphine) palladium(0)

Tetrakis(Triphenylphosphine) Palladium (0)

Palladium, tetrakis(triphenylphosphine)-, (T-4)-

Tetrakis(triphenylphosphine)Palladium(0), Pd(PPh3)4

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) Store refrigerated Protect from light

CAS 14221-01-3

EINECS 238-086-9

化學(xué)式 C72H60P4Pd

分子量 1155.561844

InChI InChI=1/4C18H15P.Pd/c4*1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;/h4*1-15H;/rC72H60P4Pd/c1-13-37-61(38-14-1)73(62-39-15-2-16-40-62,63-41-17-3-18-42-63)77(74(64-43-19-4-20-44-64,65-45-21-5-22-46-65)66-47-23-6-24-48-66,75(67-49-25-7-26-50-67,68-51-27-8-28-52-68)69-53-29-9-30-54-69)76(70-55-31-10-32-56-70,71-57-33-11-34-58-71)72-59-35-12-36-60-72/h1-60H

InChIKey NANALCPCPBPJAB-UHFFFAOYSA-N

熔點(diǎn) 103-107 °C

沸點(diǎn) 360℃ at 760 mmHg

水溶性 insoluble

溶解度 Chloroform (Slightly), Ethyl Acetate (Slightly), Methanol (Slightly)

存儲(chǔ)條件 2-8°C

穩(wěn)定性 Light Sensitive, Moisture Sensitive

敏感性 7: reacts slowly with moisture/water

外觀 Fine Powder or Platelets

顏色 Bright yellow to khaki

BRN 6704828

物化性質(zhì) 黃色結(jié)晶，溶于苯、***，不溶于醚和醇，對(duì)空氣中敏感，避光冷藏保存。四(三苯基膦)鈀作為一種重要的過渡金屬催化劑，可用于催化偶聯(lián)、氧化、還原、消除、重排、異構(gòu)化等多種反應(yīng)。其催化效率很高，可以催化許多在同類催化劑作用下很難發(fā)生的反應(yīng)。該試劑通過用肼還原PdCl2(Ph3P)2得到，或由Pd2(DBA)3與PPh3反應(yīng)制備。四(三苯基膦)鈀對(duì)光照和空氣敏感，需要在惰性氣體中避光保存。使用該試劑時(shí)，可以在空氣中短時(shí)間操作，但最好于真空設(shè)備中在氮?dú)饣驓鍤獗Ｗo(hù)下操作。