綠深水處理 純水設備的應用范圍： 
1.半導體、單晶硅、集成電路、超大規模集成電路,顯象管、觸摸屏、液晶顯示,高精度線路板,光學、光電類器件,各種電子器件,微電子工業、 
IC 芯片封裝行業,太陽能硅片清洗、 LCD 清洗等. 
2.醫藥行業用水，生物、生化實驗室用水,制藥行業,無菌、無熱源注射用水、制劑工藝用水，醫院血液透析用水、生化分析用水、輸液醫藥用水等。 
3.熱電廠用水處理、冶金工業用水處理、航天工業、汽車工業等. 
4.制取熱力、火力、渦輪發電鍋爐用水，廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。 
二.綠深環境水處理事業部申藍公司符合電子級用超純去離子水設備工藝流程: 
1.傳統工藝:

原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→精密過濾器→陽離子樹脂交換柱→陰離子樹脂交換柱→陰陽離子樹脂交換混床→終端精密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水（水質可以達到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）. 
2.新工藝一: 
原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地域不同選用)→精密過濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端精密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水（水質可以達到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃） 
3.新工藝二: 
原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地域不同選用)→精密過濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統→RO水箱→RO水增壓泵→普通混床→拋光混床→終端精密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水（水質可以達到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下,25 ℃）