NanoFlip納米壓痕儀可以提供您的材料研究實驗室?guī)頍o限的便捷。 高性能多功能性是NanoFlip設計的標志，當需要進行成像集成，需要進行頻繁的轉換和廣泛的樣本控制時，無論是環(huán)境測量還是原位測試，無論有無真空，都能提供同樣出色的結果。
革命性的Fib2Test技術允許用戶將樣品傾斜90度，以便在雙光束SEM內從FIB無縫過渡到壓痕測試，而無需移除樣品。
設計為完全真空兼容，并且具有獨特的樣品觸發(fā)功能，NanoFlip非常適用于現場環(huán)境，如SEM，FIB和真空室，或者當您的實驗帶您遷移時，可以在任何情況下工作 可以想象的成像系統(tǒng)，如AFM，光學顯微鏡和光學Pro測量儀，為您提供幾乎無限的成像選項。
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項目 |
規(guī)范 |
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執(zhí)行機構 |
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位移測量 |
電容式儀表 |
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位移范圍 |
50um |
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位移分辨率 |
0.004nm |
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典型的噪音 |
<0.1nm |
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加載應用程序 |
線圈/磁鐵 |
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最大負載 |
50mN |
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加載分辨率 |
3nN |
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硬度計壓強剛度 |
200N/m |
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阻尼系數 |
0.05N-s/m |
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共振頻率 |
150Hz |
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控制器 |
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數據采集速率 |
100kHz |
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CPU控制速率
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1000Hz |
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時間常數 |
20us或更高 |
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動態(tài)激勵頻率 |
0.1Hz-0.1kHz |
電磁執(zhí)行器用于Nanomechanics生產的所有系統(tǒng)，包括NanoFlip。 這些執(zhí)行器是堅固的線性裝置，固有地解耦力和位移。 它們的最大力為50 mN，分辨率為3 nN，超低噪聲電流小于200 nN。
NanoFlip的時間常數為20微秒，是唯一同時符合規(guī)格的商用納米壓痕儀，最大壓痕行程為50μm，噪聲<0.1nm，數字分辨率為0.004 nm，漂移率為< 0.05nm/s。
為了確保業(yè)內最廣泛，最可靠的數據，NanoFlip能夠實現0.1 Hz至1 kHz的動態(tài)激勵頻率。
樣品臺移動，Z軸為25 mm，X為21 mm，Y軸為21 mm，分辨率為nm，可在大面積上精確定位樣品。
載荷框架剛度> 7 e5N/m
獨特的尖端校準系統(tǒng)集成到軟件中，可實現快速，準確和自動的尖端校準。
可用的方法包，包含聚合物，薄膜和生物材料的提示，方法和標準
用劃痕選項，最大正常載荷為50 mN，最大劃痕距離為2.5 mm，最大劃痕速度為500μm/ s。
可選的NanoBlitz地形和層析成像軟件，用于材料的3D和4D映射。